杨光红 高级实验师

发布日期:2024-01-08  来源: 开封市科学院     浏览量:

河南大学科技创新团队

【团队负责人】 杨光红      

【所在学院(科研机构)】 材料学院

【涉及技术领域】 微纳加工及系统设备开发

【主要研究方向】

杨光红,男,高级实验师,从事微加工及仪器方面工作。主要成果:提出电子束的空间电势限域效应;基于该原理开发出3D微纳结构直写技术;设计了一种新概念纳尺度3D结构直写机(基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统);主持省自然科学基金2项, SCI论文多篇,申报发明专利6项,包括授权中国发明3项(CN 111646428 BCN 112599419 BCN 113184801 B),美国发明1(US17/597,858);已申报发明2项(CN 115101398 A202310509312.4)。荣获2023年第六届中国(上海)国际发明创新展览会金奖

【创新成果1

一种3D微纳结构及微纳器件直写技术

    3D微纳结构在集成电路、超材料、MEMS等领域具有重要应用前景。而微纳尺度下的形貌和结构构筑受到表面张力(毛细作用)的支配。故采用何种驱动力,协同表面张力实现对材料原子扩散通量、迁移方向及积聚位置调控是3D微纳结构可控构筑的关键。本项目利用电子束在材料表面的空间电势限域效应,精确地控制材料原子的断键脱附、迁移和积聚过程,直写3D微纳结构,成功解决了3D微纳结构与器件直写难题;发明专利3项,同族美国发明1项。


【创新成果2

一种新概念纳尺度3D结构直写机

我们基于电子束的空间电势限域效应,精确控制材料原子的断键脱附、迁移和积聚过程,直写3D微纳结构。并利用建模软件与硬件结合,完成直写过程的数字化,实现基于空间电势限域的3D微纳结构直写系统。该设备弥补了目前创新型结构成型原理及相关设备的欠缺,解决了直写设备在精度控制、效率及节能环保等方面的缺陷与不足,可成功实现材料学领域纳尺度材料成型精确控制、金属/半导体3D微纳结构直写构筑。



 【合作形式】技术开发、技术转让、作价入股

【联系人】张超                   【联系电话】15737955421